Die Entwicklung von Analysenverfahren zur Untersuchung ausgewahlter reaktiver Prozessgase (Chlor, Chlorwasserstoff, Bortrichlorid und Dichlorsilan) ohne Probenvorbereitung im Hinblick auf ihren Einsatz in der Halbleiterfertigung und den damit verknupften Anforderungen an die Nachweisstarke der Verfahren bildet den Schwerpunkt des vorliegenden Buches. Verschiedene atomspektrometrische Methoden wie die Graphitrohratomabsorptionsspektrometrie (GFAAS), Mikrowelleninduziertes Plasma-Atomemissionsspektrometrie (MIP-AES), Nichtdispersive Atomfluoreszenzspektrometrie (NAFS) und Induktiv gekoppeltes Plasma-Atomemissionsspektrometrie (ICP-AES) wurden fur die Ausarbeitung der Verfahren eingesetzt sowie deren Moglichkeiten und Grenzen aufgezeigt. Aufgrund der physikalisch-chemischen Eigenschaften der Gase und ihrer Reaktivitat ist die Auswahl der Materialien des Gaseinfuhrungs- und Analysensystems von entscheidender Bedeutung fur eine richtige Analyse. Sowohl technische Modifikationen als auch Kalibrierungsmoglichkeiten werden prasentiert.

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