Изложены основы различных химических и физико-химических методов обработки поверхности полупроводников. Описаны методы химико-механического, химико-динамического и плазмохимического травления и полирования монокристаллических подложек из кремния, германия и соединений А3В5, а также химические и электрохимические методики локального травления полупроводников, препарирования кристаллов и эпитаксиальных структур. Систематизированы методы межоперационной и финишной очистки полупроводников от различных загрязнений. Воспроизведено в оригинальной авторской орфографии издания 1982 года (издательство "Радио и связь").