Die Verwendung von doppelseitig freitragenden mikrostrukturierten Elektroden in MEMS (Micro-Electro-Mechanical System) und Radiofrequenzfallen sind derzeit Gegenstand aktueller Entwicklungen. Dieses Buch stellt die chemischen und physikalischen Verfahren und einen schrittweisen Herstellungsprozess fur die Erzeugung von mikrostrukturierten Elektroden vor. Um freitragende Metallelektroden zu erhalten wurde eine isotrope Tiefatzung eines Tragermaterials (in diesem Falle SiO2) durchgefuhrt, welche eine Unteratzung der Elektroden erzeugt. Zur Bearbeitung des Tragermaterials und der Metallisierung wurde auf Standardverfahren in der Prozesstechnik (Flusssaure fur die isotrope Tiefenatzung, Argon-Plasma zum Sputtern der Metallisierung, Photolack zur Ubertragung der Struktur der Belichtungsmaske) zuruckgegriffen. Weiters wurde die Veranderung des Photolacks durch Argon-Beschuss und die Haltbarkeit der Metallisierung bei langen (24h-48h) Atzzeiten in Flusssaure untersucht. Dieses Buch wendet sich an StudentInnen und ForscherInnen im Bereich mikromechanischer Systeme (MEMS) und VerfahrenstechnikerInnen.

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